我国关于集成电路布图设计专有权的保护

来源:华商律师

文章摘要
2021年是中国“十四五”开局之年,中国半导体行业协会统计,2021年中国集成电路产业销售额为10458.3亿元,同比增长18.2%。其中,设计业销售额为4519亿元,同比增长19.

2021年是中国“十四五”开局之年,中国半导体行业协会统计,2021年中国集成电路产业销售额为10458.3亿元,同比增长18.2%。其中,设计业销售额为4519亿元,同比增长19.6%;制造业销售额为3176.3亿元,同比增长24.1%;封装测试业销售额2763亿元,同比增长10.1%。
据国家知识产权局统计,集成电路布图设计登记申请和发证数量自2019年开始快速增长,其中2019年发证6614件,2020年11727件,2021年13087件,自2019到2021年三年的发证数量约为2001年(《集成电路布图设计保护条例》实施年)至2018年累计登记数量的2倍。
以上说明,我国集成电路行业正在快速发展。在集成电路产业中,布图设计技术具有积累性特征,在上一代产品中积累的经验往往可以传递到下一代产品的设计及制造过程中,相关企业有必要了解集成电路布图设计的法律保护情况。本文作者将结合《集成电路布图设计保护条例》《集成电路布图设计保护条例实施细则》《集成电路布图设计行政执法办法》的相关规定进行说明。
一、什么是集成电路布图设计
集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;集成电路布图设计,是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。该定义与《华盛顿条约》、TRIPs协议是一致的。
二、布图设计专有权保护的对象和范围
无论是美国的《半导体芯片保护法》,还是中国的《集成电路布图设计保护条例》,都只保护具有独创性的布图设计。该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
专有权的保护范围包括复制权和商业使用权。其中,复制权是指对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;商业使用权是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
未经权利人允许,他人不得行使布图设计专有权。但是对于以下行为,可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬:(一)为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的;(二)在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计的;(三)对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。
此外,《集成电路布图设计保护条例》还对“善意侵权”行为进行了豁免,即:在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时,不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计,而将其投入商业利用的,不视为侵权。
三、布图设计专有权的取得
不同于著作权法上的作品,自作品诞生时就自动取得著作权。集成电路布图设计专有权不适用自动保护主义,须经国家知识产权局登记才产生,未经登记的布图设计不受《集成电路布图设计保护条例》的保护。这一点与美国于1984年出台的《半导体芯片保护法》是一致的。需要注意的是,布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未提出登记申请的,将不再予以登记。
四、布图设计专有权的保护期限
布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计保护条例》的保护。
五、布图设计专有权的行政保护
同专利保护,集成电路布图专有权的司法保护存在双轨制,既有行政保护,也有司法保护。行政保护主要体现为行政登记、对侵权行为的行政处罚以及行政裁决。根据《集成电路布图设计行政执法办法》,国家知识产权局设立集成电路布图设计行政执法委员会,负责处理侵犯布图设计专有权的纠纷,调解侵犯布图设计专有权的赔偿数额。当事人对行政执法委员会作出的处理决定不服,向人民法院提起行政诉讼。当权利人的专有权被侵害时,当事人既可以选择请求集成电路布图设计行政执法委员会处理或调解,也可以向人民法院提起诉讼。当事人因布图设计申请权或者布图设计专有权的归属发生纠纷,已经向人民法院起诉的,可以请求国家知识产权局中止有关程序。
无锡新硅微电子有限公司与南京日新科技有限公司集成电路布图设计专有权权属纠纷一案中,2017年12月无锡新硅先向国家知识产权局举报称南京日新侵犯了其布图设计专有权,南京日新后又将无锡新硅告上法庭,主张涉案布图设计专有权应当由南京日新和无锡新硅共有,并于起诉立案后向国家知识产权局申请中止侵权纠纷的行政裁决程序。因《集成电路布图设计保护条例实施细则》第三十三条规定“当事人因布图设计申请权或者布图设计专有权的归属发生纠纷,已经向人民法院起诉的,可以请求国家知识产权局中止有关程序”。该规定赋予了当事人请求权,即请求国家知识产权局中止有关程序的权利,但是是否同意中止,需经过国家知识产权局的批准。
六、布图设计专有权的司法保护
(一)相关民事案由
集成电路布图专有权的司法保护主要体现在民事诉讼中,《民事案件案由规定》针对集成电路布图专有权的保护设置了五个案由,包括:1、集成电路布图设计合同纠纷,下辖三个子目录,分别为:(1)集成电路布图设计创作合同纠纷(2)集成电路布图设计专有权转让合同纠纷(3)集成电路布图设计许可使用合同纠纷;2、集成电路布图设计专有权权属、侵权纠纷,下辖两个子目录,分别为(1)集成电路布图设计专有权权属纠纷(2)侵害集成电路布图设计专有权纠纷;3、确认不侵害知识产权纠纷的下级案由:确认不侵害集成电路布图设计专用权纠纷;4、因申请知识产权临时措施损害责任纠纷的下级案由:因申请诉前停止侵害集成电路布图设计专用权损害责任纠纷;5、申请诉前停止侵害集成电路布图设计专用权。
(二)专有权侵权纠纷司法实践相关问题
1.是否只能以登记时已经公开的内容确定保护范围
《集成电路布图设计保护条例》第十六条规定,申请布图设计登记,应当提交……(二)布图设计的复制件或者图样;现实中,存在权利人提交的布图设计的复制件或者图样不清晰的情况,这就引发司法实践的争论。即:是否只能以登记时已经公开的内容确定保护范围。昂宝电子(上海)有限公司诉南京智浦芯联电子科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案[案号:(2013)苏知民终字第0181号]中,江苏省高级人民法院认为,登记对于布图设计专有权的确立具有公示性,而对于登记时已投入商业利用的布图设计,则专有权的保护内容应当以申请登记时提交的复制件或图样为准,必要时样品可以作为辅助参考。进一步,以复制件或图样为准确定专有权的保护内容,符合布图设计专有权制度以公开换保护的原则精神。而深圳裕昇科技有限公司、户财欢侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案[(2019)最高法知民终490号]中,最高人民法院认为,不同于专利法对发明创造采取公开换保护的制度设计,条例对布图设计的保护并不以权利人公开布图设计为条件。布图设计的登记是确定保护对象的过程,是获得布图设计专有权的条件,而不是公开布图设计内容的过程,也不是以公开布图设计为对价而获得专有权保护。笔者赞同后者的观点,因为专有权保护的对象是具有独创性的集成电路布图,而不是申请登记时所提交以及后续公示的复制件或图样,复制件或图样只是提交的部分材料,不是《集成电路布图设计保护条例》保护的对象。虽然如此,我们仍然建议申请人在申请专有权保护时提交的材料应当完备、清晰,以方便举证。进一步,2001年生效的《集成电路布图设计保护条例实施细则》规定复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上,20倍的要求已经与现有的14nm甚至个位数纳米工艺级别的集成电路技术相差很远了。为了保证图片的清晰图,建议申请人提交更高放大倍数的复制件或者图样。此外,为了方便诉讼举证,在提交申请时(在综合考虑平衡商业风险的情况下),尽可能同时提交该复制件或者图样的电子版本。
2.布图设计独创性应如何证明
虽然,登记是专有权取得的前提,但是由于依据条例规定的布图设计的登记程序,对申请登记的布图设计是否符合第四条规定的独创性条件不进行实质审查,因此不能以经过登记备案而当然认为布图设计的整体或任何部分具有独创性。同时,对于独创性的证明,也不能过分加大权利人的举证责任,要求其穷尽一切手段证明布图设计的独创性。《集成电路布图设计保护条例》第四条规定:“受保护的集成电路应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”因此,集成电路布图设计的独创性判断的过程,应首先排除公认的常规设计,然后再对剩余部分的设计是否属于已经公开的他人的布图设计进行判断,最后再对剩余部分的独创性是否符合布图设计的定义进行判断。就具体举证部分而言,权利人应通过不同角度举证,对其独创性的部分是其智力成果、不属于公认的常规设计且符合布图设计的定义进行充分论证。至于,是否属于已经公开的他人的布图设计,则由被告举证为宜。司法实践中,还会采用司法鉴定的方式来确认布图设计是否具有独创性。
3.侵犯专有权的认定规则
与著作权侵权的规则相类似,侵犯集成电路布图设计专有权的认定采取“接触+实质性相似”的规则进行判断。
接触是指权利人应举证证明指被诉侵权人在被诉侵权行为发生前,具有接触涉案布图设计的可能性,而不要求其对已经发生实际接触进行举证。在深圳裕昇科技有限公司、户财欢侵害集成电路布图设计专有权纠纷[案号:(2019)最高法知民终490号]一案中,原告赛芯公司主张被告准芯微的唯一股东户某曾在其公司任职,负责市场营销,和设计师有接触。二审法院认为,即使没有户某通过设计师接触涉案布图设计图纸的证据,但其在销售过程中也有接触使用涉案布图设计产品的可能,准芯微公司满足接触可能性的条件。
由于集成电路布图设计的专业性和复杂性,司法实践中对于实质性相似的判断往往依赖于司法鉴定,法院结合司法鉴定的委托程序、鉴定程序以及鉴定意见等综合作出是否采纳鉴定结论的判定。
我国集成电路布图设计专有权的保护既是当年加入世界贸易组织的需要,也是为了满足国家尊重和保护知识产权的内部需要。未来,在国家逐步实现国产芯片自给的大趋势下,相关企业应高度重视集成电路布图设计专有权的保护。

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